- レシピ制御型自動蒸着装置／ADS-E86
| "レシピ制御型自動蒸着装置"は、高融点金属から半導体、酸化物まで、8inch基板に蒸着が可能な自動蒸着装置です。 大型の主排気ポンプを備え、高真空環境下での蒸着が可能で、リフトオフ蒸着に最適な基板冷却機能を備えています。 自社開発のレシピ制御ソフトを標準装備しており、基板セット後からは全自動操作され、 繰り返し多層膜蒸着や、異種材料の多層膜蒸着までレシピ制御ができます。 |
|||||||||||||||||||||||||
|
|||||||||||||||||||||||||
| 到達真空度 | 成膜室：10-5Pa台 試料準備室：10-4Pa台 |
| 成膜室チェンバー | サイズ／材質：600×600×800角型／SUS304製 内面処理：バフ研磨＋電解研磨 基板搬送用ビューポート：ICF203 内部防着板：天井・4側面・底面（着脱可能） |
| ・メインポンプ | 2200L/sec 磁気軸受型ターボ分子ポンプ |
| ・粗引きポンプ | 600L/min ドライポンプ |
| ・膜厚センサー | QCMスタンダードセンサー |
| ・基板ホルダー | Ø8インチ対応（A5052 Ø214） 基板押え、ネジ付属 |
| ・蒸発源 | 6.4KW電子銃(真空チェンバー内設置型) ・電子ビーム偏向：270° ビームスキャン範囲：±10mm ・スイパー周波数(酸化物対応) X軸：〜50Hz Y軸：〜500Hz ・6点式リボルバー回転(クロスコンタミ対策ルツボ) ルツボ：12ml(cc)x6点 |
| 試料準備室チェンバー |
サイズ／材質：300×800×200／SUS304製 基板交換ハッチ：8inch基板対応(Oリング) ダンパー・キャッチグリップ付 |
| ・搬送機構 | 真空ロッドレスシリンダー(自動搬送) 真空内HOMEセンサー 8inch対応搬送アーム |
| ・メインポンプ | 300L/sec 磁気軸受型ターボ分子ポンプ |
| ・粗引きポンプ | 600L/min ドライポンプ |
| 制御・計測系 | PLC排気コントローラ：AEP-VC ・PLC排気制御/LabVIEWプロセス ・成膜室・試料準備室排気：自動排気制御及び真空封止自動停止制御 ・成膜室・試料準備室ベント：自動ガス導入制御(ポンプ、バルブ稼働状態を認識し自動操作) ・基板搬送：中間バルブ制御及び自動搬送圧空制御 ・ルツボ選択：1〜6のルツボを選択制御 ・基板シャッター開閉操作：圧空式 |
| コントロール （PC＋LabVIEW） |
PCモニタ(27インチワイド)、キーボード 英語表記、蒸着レシピ制御、多層膜対応、蒸着原料名称設定、 膜厚・レート設定・表示、材料パラメータ入力・保存 |
- i-Quick
| "i-Quick"は、独立行政法人産業技術総合研究所（産総研）・エレクトロニクス研究部門と共同で開発された、学生からベテラン研究者まで誰にでも高品質な蒸着膜を簡単に迅速に成膜出来るとても使いやすい蒸着装置です。 "i-Quick"の"i"とは、産総研・エレクトロニクス研究部門が提唱する人や環境への"あい"、Intelligence、個性(i)を実現する技術のコンセプトに基づいて設計・開発されました。 それに、"Quick"をプラスし操作や受け渡しが単純で確実、何度でも早く繰り返し成膜が出来る(QTAT)装置のブランドです。
|
 |
- 研究開発用小型ＭＢＥ装置
| 半導体薄膜作製、太陽電池用薄膜作製の研究開発に最適な装置です。 弊社の超高真空技術によりクリーンな環境下で、ご希望の薄膜作製が可能です。 ロードロック室を搭載しておりますので、真空を破ることなく基板搬送が可能です。 また、オプションにより各種蒸発源や各種モニター等を選択することで、高精度なリアルタイム解析が可能な小型MBE装置です。
|
 |
||||||||||||||||||||||||||
- EB蒸着装置
| 5ポケット/10kW電子銃を2基搭載する事により 一度に最大10種類の材料を充填することが可能です。 サンプルパーキングや分析室などの拡張も行えます。
|
 |
||||||||||||||||||||||
- マルチコンタクトデバイス評価装置
| ロードロック室からデバイスを導入し、複数の電極の確実なコンタクトをする事により、デバイス評価ができます。 ガス導入系により任意のガス種、圧力での実験も可能です。
|
 |
||||||||||||||||||||||
- 金単結晶基板作製装置
| 均熱性の良い加熱機構と蒸着レートを制御する事により、 マイカ基板上に金単結晶膜を成膜する事ができます。 バッチ式のシステムにより、一度に複数枚の基板を簡単に作製する事が 可能です。
|
 |
||||||||||||||||||
- CVD装置用ガス混合システム
| CVD装置に混合したガスを供給する為のシステムです。 複数のガス種を任意の比率により混合して供給する事が出来ます。 ベントラインを設けることにより、バルブ操作による圧力の変動が軽減されるように設計されています。
|
 |
||||||||||
- 簡易プラズマCVD装置
RFプラズマにより簡易的にプラズマCVD成膜が行えます。
|
 |
||||||||||||||||
